Prejsť na obsah
Výskum

Názov laboratória: Laboratórium plazmatickej modifikácie a depozície
Fakulta: Materiálovotechnologická fakulta STU so sídlom v Trnave
Ústav: Ústav výskumu progresívnych technológií
Kontaktná osoba:  Mgr. Juraj Halanda
Kontakt:
e-mail: juraj.halanda@stuba.sk

 

Charakteristika laboratória:

Laboratórium je zamerané na modifikáciu povrchov pomocou iónovej implantácie a magnetrónového naprašovania, resp. kombináciou metód.

Iónová implantácia je metóda využívajúca urýchlené ióny na vnesenie cudzích atómov (vo forme iónov) do základného materiálu, substrátu alebo na vytvorenie štruktúrnych porúch v ňom. Touto technikou je možné cielene modifikovať elektrické, magnetické, optické, mechanické atď. vlastnosti materiálu ako aj povrchová štruktúra napr. za účelom zvýšenej tvrdosti, oteruvzdornosti, biokompatibility, zmáčavosti a pod.

Reaktívne magnetrónové naprašovanie je osvedčená technika na výrobu tenkých vrstiev a povlakov. Dopad iónov z plazmy na terčík spôsobuje vyrážanie atómov z neho, ktoré následne sadajú na substrát. V režime reaktívnej depozície sa do procesu pridávajú malé množstvá reaktívneho plynu, ktorý reaguje s naprašovaným materiálom a vytvára požadovanú vrstvu zlúčenín na substráte.

Laboratórium je vybavené urýchľovačmi pokrývajúcimi energetický rozsah od desiatok keV až po 100 MeV (v závislosti od použitého iónu), tiež má k dispozícii zariadenia pre plazmou podporovanú iónovú implantáciu, kde je možné pracovať aj s nerovinnými alebo objemovými substrátmi komplikovaných 3D tvarov. Ďalej je vo vybavení magnetrónová naprašovačka v ktorej je možné nanášať na substrát vodivé aj nevodivé materiály s možnosťou pridávania reaktívnych plynov a ko-depozície z viacerých terčov.

 

Fotografie: